Laboratórium na analýzu povrchov a tenkých vrstiev
Ilkovičova 3, 812 19 BratislavaČinnosť Laboratória analýzy povrchov a tenkých vrstiev je venovná základnému a aplikovanému výskumu v oblasti analýzy povrchov, rozhraní a tenkých vrstiev. Experimentálne vybavenie je prístupné aj pre využitie v priemysle prostredníctvom ponúk na charakterizáciu vzoriek mikroanalytickými povrchovo citlivými technikami. Laboratórium spolupracuje s mnohými slovenskými a zahraničnými inštitúciami. Základné vybavenie laboratória pozostáva z röntgenovej fotoelektrónovej spektroskopie (XPS) a Augerovej elektrónovej spektroskopie (AES). Pre obidve je charakteristické to, že sa jedná o nedeštruktívne analytické metódy na identifikáciu chemických prvkov v niekoľkých najvrchnejších atómových vrstvách povrchu tuhej látky. Analýza tenkých vrstiev sa realizuje kombináciou leptania povrchu iónovým odprašovaním s metódami AES a XPS , pričom sa meria zloženie vzorky ako funkcia hĺbky. Je možné analyzovať všetky prvky okrem H a He, hĺbkové rozlíšenie je 1-2 nm, detekčná citlivosť 0,1 at%.
AES a XPS poskytujú informáciu o zložení povrchov, rozhraní a tenkých vrstiev všetkých vákuovo compatibilných tuhých látok. Okrem mnohých ďalších oblastí našli uplatnenie a stali sa nenahraditeľnými nástrojmi v polovodičovom priemysle, mikroelektronike a optoelektronike. Analýza tenkých vrstiev a viacvrstvových štruktúr je kľúčovou diagnostickou operáciou, bez ktorej by aj tie najdokonalejšie technologické kroky, ich postupnosti, kombinácie a optimalizácie sotva viedli ku želanému výsledku.